</p><p>В 2026 году Россия начнёт работу над созданием литографа для производства чипов по топологии 90 нм. Об этом 20 марта 2026 года на отраслевой научно‑технической конференции радиоэлектронной промышленности заявил заместитель министра промышленности Василий Шпак.
</p><p>
</p><p>Исполнитель работ будет определён по результатам конкурса. Созданием подобного оборудования в стране занимается Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗТНЦ) совместно с белорусским предприятием «Планар». Компания ранее работала над литографами на 350 нм и 130 нм.
</p><p>
</p><p>Генеральный директор ЗНТЦ Анатолий Ковалёв объяснил, что компания пока не решила, будет ли участвовать в конкурсе. В ноябре 2026 года центр планирует завершить разработку степпера с разрешением 130 нм. Представители Минпромторга не ответили на запрос о подробностях создания нового литографа.
</p><p>
</p><p>Эксперт РИНКЦЭ и академик Международной академии связи Дмитрий Пшиченко рассказал, что разработка полноценного литографа с нуля может занять от пяти до десяти лет и потребовать сотни миллионов долларов. Если речь идёт о локализации или доработке существующих решений на базе 130 нм, сроки и затраты могут составить от двух до четырёх лет.
</p><p>
</p><p>Дмитрий Пшиченко указал, что такие нормы используются для автомобильной электроники, промышленной автоматизации и энергетики. По мнению Пшиченко, главный вопрос состоит не в самом литографе, а в наличии полной экосистемы фотошаблонов, материалов и инструментов. Без этого даже наличие установки не гарантирует массового производства. Основное значение имеет наличие компетенций и персонала, который может развивать и обслуживать установку.
</p><p>
</p><p>При освоенной разработке литографа на 130 нм не нужно создавать всё оборудование заново. Требуется доработать имеющиеся элементы и технологии, заменить объективы, лазерные модули и систему управления, чтобы получить разрешение в 90 нм. Независимый эксперт автор канала RUSmicro Алексей Бойко отметил, что разработанный литограф на 130 нм с помощью двукратного экспонирования можно использовать для создания чипов по топологии 90 нм.
</p><p>
</p><p>В России уже разработан литограф на 350 нм. По состоянию на март 2026 года идёт работа над оборудованием с разрешением 130 нм. Стоимость литографа ЗНТЦ с длиной волны 130 нм составит 6 млн долларов. Производитель обещает скорость обработки от 100 до 140 пластин в час.

<div><i>Информация взята с: <a href="https://habr.com/ru/news/1015588/">ХАБР</a></i><p></p></div>