В Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ) создали установку для плазмохимического осаждения (ПХО) на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. Новое оборудование позволит создавать чипы по мировым стандартам.

Пластины диаметром 300 мм являются стандартом, по которому в настоящее время производится более 90% микросхем в мире. Такой размер позволяет количество производимых чипов на одной подложке. Это снижает их стоимость для конечного потребителя.

Создание российской установки ПХО — хорошая для отрасли новость, поскольку это очередной шаг вперед в реальном импортозамещении. Речь идет о еще одном краеугольном камне в фундаменте полного цикла производства микроэлектроники в нашей стране.

Георгий Ерицян, начальник отдела перспективных разработок НИИТМ

По словам Георгия Ерицяна, удалось локализовать производство значительного количества составных частей нового оборудования, а базовые технологические процессы не уступают импортным аналогам. Это также открывает возможность для страны стать альтернативным поставщиком оборудования для производства микроэлектроники для заинтересованных государств.